JB/T 8946—1999 真空离子镀膜设备

Vacuum ion coating plant

1、依据 JB/T 8946—1999 负压阴阳化合物电镀装置基准设定了负压阴阳化合物电镀装置的系统耍求，检测措施，考验标准规范，标识、木箱、及运输和贮藏等。 本标准适宜于学习压力在10-4~10-3Pa范围内的进口高压气化合物镀晶环保系统（这缩写环保系统），具体化例如如下所示类行：多弧化合物镀、弧光充击穿型进口高压气化合物镀、空腔金属电极化合物镀（HCD）、微波射频化合物镀（RFIP）、直流电充击穿二极型（DCIP）、多金属电极型、吸附性反映蒸馏掉镀（ARE）、加强型ARE、底压等化合物体化合物镀（LFPD）、电磁场蒸馏掉化合物镀、感应器蒸汽加热化合物镀、簇团化合物束镀等。 注：正正阴阳离子镀是在真空箱具体条件下，通过有害气态尖端放电使有害气态或被汽化材质一些离化，在有害气态正正阴阳离子或被汽化材质正正阴阳离子轰击做用的同一，把汽化物或其表现物积聚在基片上。 2、引入原则 叙述准则所含有的条文，在在本准则中插入而组合为本准则的条文。本准则出版权时，图甲中安卓版本的均为有效的。各种准则一般会被制定，采用本准则的社会各界应刍议采用叙述准则近期最新安卓版本的的也许性。 GB/T 6070—1995 正空法兰部 GB/T 11164—1999 真空泵镀晶设施 专用技術要求 3、技术工艺符合要求 3.1设施很正常上班情况 3.1.1 区域温湿度：10℃~30℃。 3.1.2 相对应对环境湿度的：不多于75%。 3.1.3 放置正常情况下浸水温湿度：不远远超出25℃。 3.1.4 一系列冷却循环水质：城市地区杭州自来水或非常质量水平的水。 3.1.5 共电电压：380 V三相电源50 Hz 或220 V三相变频器50 Hz（由适用电需要而定）； 电压降下降空间：342 ~ 399 V或198 ~231 V； 概率冲击时间范围：49~51 Hz。 3.1.6 系统所须的压缩的自然空气，液氮，生水、温水等的压为、环境温度，消费量等，均应在好产品适用说明书怎么写书内附上。 3.1.7 设施设备四周生态环境整齐，自然空气洁净，不应该有因起电气产品名词解释他合金金属材料件漆层锈蚀或因起合金金属材料间导电的尘灰或的气体来源于。 3.2 产品技艺产品参数 3.2.1 设配的主要的科技产品参数应具备表1暂行规定。

更多真空技术标准请查看：真空技术标准汇编

标准全文下载：

　　JB/T 8946-1999 真空离子镀膜设备