为有效提高3003铝箔表面光泽度、比面积及强硬度，采用直流反应磁控溅射的方法，在一定溅射参数条件下，选用高纯钼靶和钛靶对3003铝箔进行溅射实验，分别在铝箔表面主要沉积出AlMo3、Al3Mo薄膜和TiAl、(Ti,Al)N薄膜，利用X射线衍射、扫描电镜分析相组成及微观组织结构，并测试了显微硬度和薄膜厚度，实验结果表明：制备出的AlMo3、Al3Mo薄膜和TiAl薄膜结晶良好，与基底结合良好，铝箔表面美观漂亮、硬度增高及比表面积得到一定提高。

　　正文：3003镀铝是扭曲铝锰系切勿淬炼的铝镍钢，其明显特征是耐蚀、导电、热传导稳定性方面好，且具备有充分的条件可逆性、非磁铁、优良率的悍接稳定性方面和加工处理性等，在智能及微智能化工业、能源技术、数据生物学等各个领域中的应运软件越变越比较大绿地面积。初期对此3003镀铝重要采用加细晶铝锭的心思很好的的调节了3003镀铝镍钢的内部管理组织安排及稳定性方面，但3003镀铝外壁层亮泽度、比体积及态度强硬度仍下降，渐渐所有产业化的极速发展壮大，需要对3003镀铝外壁层效率和稳定性方面进每一步的深入分析。磁控溅射为一个应运软件比较大绿地面积的大体积复合膜磨合流程，它能磨合所有耐磨损、耐蚀、装饰装修、光电技术和其它的所有职能复合膜，提炼出的复合膜具备有均匀分布性好、依附力强、纯度就越高和非均质性好的特征，是制得多晶及非晶半导原料、磁铁原料及镍钢原料的一个必要科技手段。但，完成直流变压器电化学反映磁控溅射在3003镀铝镍钢外壁层磨铝镁合金屬复合膜的的深入分析较少。下面完成应用高纯金屬钼靶和钛靶对3003镀铝外壁层使用直流变压器电化学反映磁控溅射，重要制得出的AlMo3、Al3Mo 复合膜和TiAl、(Ti,Al)N 复合膜让 3003镀铝外壁层效率和稳定性方面均能在一些 情况上上升。

1、实验材料及方法

　　实验选用3003铝箔尺寸均为0.3×10×20mm， 对试样基体表面采用1200# 砂纸进行机械打磨10min后，再对基体表面进行抛光到无明显划痕。在直流反应磁控溅射前将试样经过乙醇清洗烘干，然后用丙酮溶液超声浸蚀清洗15 min 后烘干。

　　薄膜采用CS-300直流平面磁控溅射系统制备，3003铝箔装在可绕中心轴旋转的衬底架上，衬底架内用钼丝或钛丝对衬底加热，溅射靶分别选用高纯金属钼靶和钛靶时，Ar作为溅射气体，分别选用氧气和氮气作为反应气体，通过质量流量控制器进入制备室中。靶到基底距离都约为7cm，选用钼靶和钛靶溅射时本底真空分别为3×10^-3Pa 和5×10^-3Pa，衬底温度分别为150℃和120℃。溅射前，预先在纯Ar(99.999%)气体中放电5min左右，以除去靶表面其余杂物， 再通入氧气(99.99% ) 或氮气(99.99%)进行反应溅射。钼靶溅射过程中，氧气与氩气比为1∶4，钛靶溅射过程中，氮气与氩气比为1∶4，氧气和氮气的流量控制在4sccm左右，分别通过流量计进行控制。通过调整真空阀门来改变溅射气压，钼靶和钛靶溅射气压分别为0.7Pa 和0.8Pa。溅射电流均为1 A，溅射电压均为250 V，溅射时间分别为10min 和40min。溅射结束后分别采用X'Pert/Pro 多功能X 射线衍射仪(XRD)、JSM- 6700F扫描电镜(SEM)、HXD- 1000显微硬度仪、OLYMPUS BX51金相显微镜、TT260 Coating thickness gauge薄膜测厚仪对薄膜的成分结构、表面形貌、性能进行了检测。硬度计的实验力选择为25g，加载时间15s，对每个样品表面各测量6个点。测厚仪对每个面各测量10个点。

2、实验结果及分析

2.1、XRD分析

　　图1为采用X'Pert/Pro多功能X 射线衍射仪测定的样品的XRD衍射谱，图1a为直流磁控溅射钼靶下制备的薄膜的XRD衍射谱，检测到制备的薄膜物相主要含AlMo₃、Al₃Mo 相。图1b为直流磁控溅射钛靶下制备的薄膜的XRD衍射谱，检测到制备的薄膜物相主要含TiAl、（Ti,Al）N相。衍射谱中Al-Mo晶粒，TiAl 和（Ti,Al）N晶粒薄膜特征峰的出现说明在此磁控反应溅射工艺参数下，两靶材与3003铝箔衬底均存在着化学键合反应。

图1 磁控溅射试品的XRD谱

2.2、扫描电镜SEM分析

　　采用JSM-6700F扫描电镜来分析薄膜表面形貌，磁控溅射制备的薄膜表面非常平滑。图2为表面制备薄膜的SEM图片。由图2a中可见，薄膜和基体结合良好，AlMo₃、Al₃Mo薄膜晶粒细小且粗细均匀，细小的圆球状或等轴状颗粒均匀镶嵌堆垛在试样表面，薄膜表面未出现龟裂现象，表面晶粒间呈非连续状态。大部分晶粒尺寸在30～50nm左右，只有极少数晶粒偏大超过50 nm，铝箔表面对AlMo₃、Al₃Mo薄膜取向生长起着一定作用。AlMo₃、Al₃Mo 薄膜晶粒尺寸比可见光波长380～780nm少的多，肉眼观其透明度高，3003铝箔表面美观、漂亮。

　　由图2b中可见，薄膜和基体结合良好。磁控溅射生成的TiAl,（Ti,Al）N薄膜大部分晶粒尺寸在20～30nm左右，比AlMo₃、Al₃Mo薄膜晶粒更加细小，均匀致密的晶粒呈连续状态覆盖整个表面，细小致密的TiAl,（Ti,Al）N 薄膜晶粒也增大3003 铝箔的单位比表面积，具备高的光泽度。

图2 最初Al箔界面界面制法膜SEM照片