真空产品生产厂家、真空行业的科技工作者每时每刻都应该掌握自己工作领域内最近、最新的学术动态，研究自己工作范围内的前沿课题，以便给自己定位，确定自己的对策，找出自己前进的方向，积极参加市场竞争，不断改革创新，才能立于不败之地。尤其是我国加入WTO之后，真空科技工作者的目光应该更远大，获取科技信息就显得更为重要，它是企业存在的保障，是科技工作者的生命线。 1、真空室泵

　　真空泵的种类很多，可按下表进行分类。

　　真空泵的前沿课题主要有：①号称21世纪绿色真空泵的各种无油泵（干泵）的研制；②喷射泵、扩散泵的理论研究与设计计算；③探索创新泵的工作原理，研制新型泵。

2、真空度检定 　　进口真空记量现在设计的包括网站内容有：

　　①真空度(全压力)测量与校准；
　　②真空质谱分析，分压力的测量与校准；
　　③气体微流量(漏率)的测量与校准；
　　④材料放气率的测量；
　　⑤真空泵抽速测量。

机械泵压力容器检验理论研究的先进的科研课题可举例为：

　　①研究非平衡态分子流理论，非平衡态分子流校准系统，超音速分子流校准系统，为空间真空测量和校准解决难题；
　　②研究微小漏气率测量、校准技术；
　　③研究解决极高真空的测量、校准问题，寻找新的测量理论；
　　④研究材料微量放气率测量与放气成分分析技术
　　⑤研究解决扩散泵返油率的测量问题，寻找新的测量方法。

3、真空室镀晶

　　真空镀膜是真空科学技术领域中最活跃的一门应用技术，它涉及到镀膜设备、工艺、膜材、靶材等诸多方面，薄膜的种类很多，这里只能简单论述其中的一部分。

3.1、孔状贴膜 　　自然而然界中金刚石最硬，立米氮化硼第五，增碳硼然后。

　　①金刚石膜(CVD法生产): 热丝CVD法金刚石膜沉积速率可达 2.5μm/h，HV40~50GPa；
　　②B4C 碳化硼：用磁控溅射法生产，高温热稳定性好，1100℃以上，它是最硬材料，HV50.4gPa；
　　③复合膜：TiN-第1代；TiCN、TiAlN--第二代; 第三代是多组元复合膜和多层膜体系;TiN/TiCN、TiN/NbN、TiN/TiAlN、TiN/CrN、TaN/NbN(氮化钽/氮化铌)，HV55.6GPa，发展成多层纳米梯度膜- TiAl、TiAl1、TiAl2、ZrN(氮化锆)。发展方向：提高膜的韧性、耐磨性、耐热性、耐蚀性。

3.2、金刚石耐磨涂层厨房刀具

　　深入分析目标：①延长金刚石涂覆与基体间粘接力，制作期间过度层，设计多涂覆厨房刀具; ②大积累绿地面积，延长生张强度; ③深入分析PVD法金刚石涂覆实际和生产技术。 3.3、光、电、 磁各项性能膜 　　那些功能表膜类别多样化，特性各有不同，这儿仅举一些例子。

　　①发光薄膜：Y2O3:Eu(尿素D溶液法)Eu(射频溅射法);
　　②冷光膜- 可见光区高反射，红外光区高透射，实现冷光照射，达到保护被照物目的;
　　③有机光电薄膜：金属酞菁膜：CuPc-PbPc;CuPc/ZnS; 酞菁氧钛具有极高光敏系数;
　　④光电功能复合膜- Ag-Au-SiO2，Ag-BaO，Ag-SiO2,Ag-MgF2，其中Ag-MgF2纳米金属陶瓷薄膜具有光吸收特性，Ag-BaO具有光电发射特性；
　　⑤透明导电膜：ITO(In2O3:Sn),ZAO(ZnO:Al)，IMO(In2O3:Mo);
　　⑥光致变色薄膜：18烷基取代螺吡喃薄膜(SP-18),在紫外光照下变色，在可见光照下恢复无色，可用于光信息存储、光控开关等；
　　⑦磁光记录薄膜：PbFeCo(铅铁钴);
　　⑧超大规模集成电路(VLSI)： 在Si基片上溅射Cu或Al，实现多层布线;
　　⑨半导体膜：SiC、ZnO；
　　⑩其它光电磁等特性功能膜：

　　LiF、CaF2用于平面型场发射显示器;
　　Fe/Cr多层膜有巨磁电阻(GMR) ;
　　Fe=SiO2膜具有隧道磁电阻效应(TMR);
　　TiO2膜具有优良的介电、压电、气敏和光催化功能;
　　Cu-SCN-Al(有机络和物)有极性记忆效应;
　　三乙胺- 四氰-P-醌二甲烷(TEA(TCNQ)2)单晶是一种可以用来进行高密度信息存储的有机复合材料;
　　YBCO属高温超导(HTS)膜。

3.4、裝饰膜 　　的学习目标：①对bopp复合膜相关材料的的学习顺向分手后软型化、 多类类、高的耐腐蚀性、新最简单的方法目标发展趋势②的学习分手后软型膜的设置、的耐腐蚀性测试、配制最简单的方法; ③的学习bopp复合膜内应力( 坚固度) ;④的学习大建筑面积靶材开发技巧，的提升靶材回收用率。 3.5、领先科研项目 　　①发现还具有新性的新的膜层用料; 　　②装修设计兼备特定工作的新的膜系(符合膜); 　　③转型现代科技公司工业的发展，列如 模块化集成运放工业的发展，资讯存储空间工业的发展，水平面界面电脑表明器工业的发展，还有lcd表明器界面电脑表明器(LCD)，等化合物体界面电脑表明器(PDP)， 场致发射卫星界面电脑表明器(EL)； 　　④深入到膜层的结构与功能相互影响等理论上论述。