摘　要：主要包括高纯铝、钛两人靶材,各用在纯钛TA2和钛镍钢TC11基面材料上岩浆岩制法了TiAlN膜层.用阅读电子器材显微镜看研究分析(SEM)看研究分析了膜层的形貌、用能谱仪(EDS)研究分析了膜层的成分表.最后得出结论:在不一样基面材料上岩浆岩的膜层的表面形貌存有距离;两者工艺设备在不一样的基面材料上岩浆岩的膜层中N、Al和Ti原素呈梯度方向匀称,可很明显的看研究分析到界面显示处存有这八种原素的互吸附,使膜层与基体间变成石油化工融入. 　　关键点词：电弧焊接正离子镀;TiAlN;公司;成份 　　分为号：TG146.2　期刊论文安全标识码：A 　　文章内容标码：1672-7126(2008)增刊-064-04 Influence of Target Current on Microstructures and Stoichiometries of TiAlN Coating Deposited by Arc Ion Plating Wang Shaopeng　 Pan Xiaolong　 Li Zhengxian　 Wang Baoyun　 Yan Peng　 Ji Shouchang